近日,理办王海良课题组利用XANES等先进表征技术研究富含缺陷的单晶超薄四氧化三钴纳米片及其电化学性能(Adv.EnergyMater.2018,8,1701694),如图一所示。而目前的研究论文也越来越多地集中在纳米材料的研究上,法征发布并使用球差TEM等超高分辨率的电镜来表征纳米级尺寸的材料,法征发布通过高分辨率的电镜辅以EDX,EELS等元素分析的插件来分析测试,以此获得清晰的图像和数据并做分析处理。该研究工作利用了XANES等技术分析了富含缺陷的四氧化三钴的化学环境,求意从而证明了其中氧缺陷的存在及其相对含量。
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